ASML 周三公布了創(chuàng)紀(jì)錄的收入和利潤，盡管個(gè)人電腦和智能手機(jī)銷售放緩，但對芯片生產(chǎn)設(shè)備的需求創(chuàng)下紀(jì)錄。隨著芯片制造商繼續(xù)投資于晶圓廠設(shè)備 (WFE)，該公司的產(chǎn)品積壓 – 包括深紫外 (DUV) 光刻光刻機(jī)和極紫外 (EUV) 光刻工具 – 現(xiàn)在已超過 380 億美元。ASML 繼續(xù)向中國客戶銷售其 DUV 工具。
此外，所有當(dāng)前的 EUV 客戶都致力于使用高 NA EUV 工具。
由于芯片制造商繼續(xù)投資晶圓廠設(shè)備(WFE)，該公司積壓的產(chǎn)品——包括深紫外(DUV)光刻光刻機(jī)和極紫外(EUV)光刻工具現(xiàn)在超過380億美元。同時(shí)ASML表示不受美國制裁影響，繼續(xù)向中國客戶銷售其DUV工具。此外，目前所有EUV客戶都承諾使用High-Na級EUV工具。
創(chuàng)紀(jì)錄的需求
ASML第三季度銷售額為58億歐元，銷售了80臺新的光刻系統(tǒng)和6臺二手光刻機(jī)，包括12臺EUV設(shè)備(與第二季度一致)和74臺DUV機(jī)器(少于第二季度的79臺)。
該公司本季度利潤達(dá)到 29.94 億歐元，毛利率達(dá)到 51.8%。臺積電的一些客戶更喜歡所謂的快速發(fā)貨。這種發(fā)貨過程省略了在 ASML 工廠的一些測試，并將最終測試和正式驗(yàn)收帶到客戶現(xiàn)場——因此該公司 2022 年第三季度的部分銷售額將在下一季度得到確認(rèn)。
盡管對 PC、智能手機(jī)和消費(fèi)電子芯片的需求越來越弱，但芯片制造商預(yù)計(jì)其產(chǎn)品的銷售額將在 2024 年至 2025 年開始增長，屆時(shí)他們將需要安裝工具的新產(chǎn)能。
目前，英特爾、美光、三星和 SK 海力士等領(lǐng)先公司正在建設(shè)多個(gè)晶圓廠，這些晶圓廠將在未來幾年需要設(shè)備。對于 ASML 而言，這意味著第三季度約 89 億歐元的創(chuàng)紀(jì)錄預(yù)訂量，其中 38 億歐元是 EUV 光刻工具，包括具有 0.33 數(shù)值孔徑的工具以及具有 0.55 數(shù)值孔徑的高 NA 系統(tǒng)。
截至今天，ASML 的積壓訂單超過 380 億美元（高于第二季度的 330 億美元），其中包括 600 多臺 DUV 光刻機(jī)和 100 多臺 EUV光刻機(jī)。
ASML 首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森( Roger Dassen)表示：“85% 的訂單確實(shí)是用于 EUV 和浸入式的，因此真正迎合了半導(dǎo)體制造中更先進(jìn)和更具戰(zhàn)略性的部分?！?“他們確實(shí)也在建設(shè) 2023 年之后的產(chǎn)能。還有我們一直在談?wù)摰募夹g(shù)主權(quán)的因素。
事實(shí)上，各國政府希望在其半導(dǎo)體制造方面更加自給自足。因此，這些長期趨勢仍然非常完整，我認(rèn)為這創(chuàng)造了一個(gè)我們所看到的情況，即大部分客戶確實(shí)仍然在推動我們盡早獲得工具，而不是晚些時(shí)候。”
該公司需要數(shù)年時(shí)間才能交付這些工具，因?yàn)槠?2023 年的目標(biāo)產(chǎn)能是超過 375 臺 DUV 機(jī)器和超過 60 臺 EUV 機(jī)器。
“ASML 預(yù)計(jì)第四季度凈銷售額在 61 億歐元至 66 億歐元之間，毛利率約為 49%，”ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 表示?！拔覀冾A(yù)計(jì)全年收入為 211 億歐元，毛利率接近 50%?！?/p>
ASML 繼續(xù)向中國發(fā)貨
與美國的 WFE 供應(yīng)商不同，由于美國對中國半導(dǎo)體行業(yè)實(shí)施制裁，禁止美國芯片生產(chǎn)技術(shù)在沒有美國商務(wù)部特別出口許可證的情況下運(yùn)往中國，ASML 并未降低其第四季度的預(yù)期。
ASML的首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森說，ASML總部位于荷蘭，在其DUV工具中并未使用很多在美國設(shè)計(jì)或生產(chǎn)的零部件，因此即使不是全部，它也可以將大部分DUV工具運(yùn)往中芯國際、華宏和長江存儲等中國大陸公司。
“我們?nèi)栽谠u估美國對中國芯片行業(yè)的限制，”Dassen說。”我們是一家歐洲公司，我們的設(shè)備中使用的美國技術(shù)有限，我們的初步認(rèn)識是，這對我們的直接影響是相當(dāng)有限的。我們可以繼續(xù)將非EUV光刻工具從歐洲運(yùn)往中國。”
不過ASML 目前依然無法將 EUV 光刻機(jī)運(yùn)送給其中國客戶，現(xiàn)在也無法將它們運(yùn)送到中國，因?yàn)樗麄兪褂玫氖窃诿绹O(shè)計(jì)和生產(chǎn)的 Cymer 光源。
所有EUV客戶都會遷移到High NA EUV
本季度ASML的更多好消息是其第一臺商用High NA光刻機(jī)Twinscan EXE:5200的額外訂單。其中至少有一個(gè)訂單來自其目前的EUV客戶，該客戶之前沒有訂購這種工具，這意味著所有使用（或計(jì)劃使用）數(shù)值孔徑為0.33的極紫外光刻技術(shù)的公司最終將遷移到下一代0.55NA的EUV光刻技術(shù)。
此前該公司表示，三個(gè) Logic 和兩個(gè) Memory 客戶訂購了其 High-NA 光刻機(jī)，雖然 ASML 沒有透露其 0.55 NA EUV 客戶的名稱，但我們可以推斷這意味著 Intel、三星代工廠和TSMC (Logic)為以及三星和 SK 海力士（內(nèi)存）。出于顯而易見的原因，ASML 沒有透露其最新的 High-NA EUV 客戶的名稱，但可以合理地假設(shè)美光在第三季度訂購了其第一臺 High-NA 光刻機(jī)。
目前，美光正在美國——猶他州和紐約——建設(shè)兩個(gè)領(lǐng)先的內(nèi)存工廠，這些工廠將在 2025 年至 2026 年的時(shí)間范圍內(nèi)開始提高 DRAM 產(chǎn)量。最初，兩家晶圓廠都將使用 Twinscan EXE 0.33 EUV 工具，但最終美光將需要更先進(jìn)的工具，這就是它需要 0.55 EUV 光刻機(jī)的原因。顯然，該公司已經(jīng)開始為下一代做準(zhǔn)備。
美光尚未對其 High-NA EUV 承諾發(fā)表評論，但我們有理由相信該公司正在期待 ASML 的下一代 High-NA EUV 生產(chǎn)工具。
總結(jié)
盡管最近幾個(gè)月針對個(gè)人電腦、智能手機(jī)和消費(fèi)電子產(chǎn)品的邏輯和存儲芯片的需求下降，并且在未來兩個(gè)甚至三個(gè)季度不太可能反彈，但芯片制造商繼續(xù)投資于他們的工廠–從而將他們的資金帶到ASML。對WFE的需求如此之高，以至于ASML的先進(jìn)設(shè)備積壓在第三季度增加到380億美元，或在一個(gè)季度內(nèi)增加50億美元。
雖然美國公司現(xiàn)在需要美國 DoC 的特殊出口許可證才能將其晶圓廠設(shè)備出售給中國的客戶，但 ASML 認(rèn)為它可以不受任何限制地將其 DUV 光刻機(jī)出口到中國。雖然美國對中國半導(dǎo)體行業(yè)的制裁是否會間接打擊 ASML 還有待觀察，但對該公司工具的需求如此強(qiáng)勁，以至于中國客戶可能至少在幾年內(nèi)都不會完全流失。
